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    • 微波等離子去膠機可精確控制等離子體的密度和能量

      點擊次數:96 更新時間:2024-01-25

        微波等離子去膠機是一種先進的半導體制造設備,用于去除晶圓表面或器件上的光刻膠。在半導體制造過程中,光刻是一個關鍵步驟,它涉及到在晶圓上涂覆一層光敏材料(光刻膠),然后通過曝光和顯影來形成所需的圖案。完成這些步驟后,必須去除剩余的光刻膠,以進行后續的加工步驟。傳統的去膠方法包括濕化學清洗和等離子體灰化,但這些方法可能不夠有效、不夠環保,或者對晶圓造成損害。
        

       

        微波等離子去膠機的優勢:
        
        1.高效率:能夠在較短的時間內處理大量晶圓,提高生產效率。
        
        2.環境友好:相比濕化學方法,微波等離子去膠產生的廢物更少,對環境的影響更小。
        
        3.晶圓保護:微波等離子去膠過程對晶圓表面造成的損傷較小,有助于保持晶圓的質量。
        
        4.精確控制:可以精確控制等離子體的密度和能量,從而實現對去膠過程的精細調控。
        
        5.兼容性:微波等離子去膠技術與現有的半導體制造工藝兼容,易于集成到生產線中。
        
        微波等離子去膠機的工作原理是,首先將晶圓置于處理室內,然后通過微波發生器產生微波能量。這些微波能量通過波導傳輸到處理室,并在其中激發氣體分子形成等離子體。等離子體中的高能粒子與光刻膠分子發生反應,將其分解成較小的分子或原子,這些分解產物隨后被真空泵抽走,從而清除晶圓表面的光刻膠。在操作時,需要控制多個參數,包括微波功率、處理室內的壓力、氣體流量和處理時間。這些參數的選擇取決于光刻膠的類型、厚度以及所需去除的圖案特性。通過優化這些參數,可以實現高效且均勻的去膠效果。
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