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    • 產品名稱:RIBE反應離子束刻蝕

      產品型號:NIE-4000(R)

      產品報價:

      產品特點:NIE-4000(R)RIBE反應離子束刻蝕:如銅和金等金屬不含揮發性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。通常情況下,樣品表面采用厚膠作為掩模層,刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量,否則光刻膠將變得非常難以去除。

      NIE-4000(R)RIBE反應離子束刻蝕的詳細資料:

      RIBE反應離子束刻蝕系統

      NIE-4000(R)RIBE反應離子束刻蝕產品概述:如銅和金等金屬不含揮發性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。通常情況下,樣品表面采用厚膠作為掩模層,刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量,否則光刻膠將變得非常難以去除。

      NANO-MASTER技術已經證明了可以把基片溫度控制在50° C以內的同時,旋轉晶圓片以達到想要的均勻度。

      NIE-4000(R)產品特點:

      • 14.5”不銹鋼立體離子束腔體
      • 16cm DC離子槍1200eV,650mA, 氣動不銹鋼遮板
      • 離子束中和器
      • 氬氣MFC
      • 6”水冷樣品臺
      • 晶片旋轉速度3、10RPM,真空步進電機
      • 步進電機控制晶圓片傾斜
      • 自動/手動上下載晶圓片
      • 典型刻蝕速率:銅200 ?/min, 硅:500 ?/min
      • 6”范圍內,刻蝕均勻度+/-3%
      • 極限真空5x10-7Torr,20分鐘內可達到10-6Torr級別(配套500 l/s渦輪分子泵)
      • 配套1000 l/s渦輪分子泵,極限真空可達8x10-8Torr
      • 磁控濺射Si3N4以保護被刻蝕金屬表面被氧化
      • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
      • 菜單驅動,4級密碼訪問保護
      • 完整的安全聯鎖

       

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