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NSC-3500(A)全自動磁控濺射系統
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磁控濺射技術
NSC-3500(A)全自動磁控濺射系統概述:帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達到6"旋轉平臺,支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
NSC-3500(A)帶有14"立方形不銹鋼腔體,3個2"的磁控管,DC直流和RF射頻電源。 在選配方面,350 l/s渦輪分子泵,額外的磁控管和襯底加熱功能。
NSC-3500(A)全自動磁控濺射系統產品特點:
不銹鋼腔體
260l/s或350l/s的渦輪分子泵,串接機械泵或干泵
13.56MHz,300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門易于上下載片
基于LabView軟件的PC計算機控制
帶密碼保護功能的多級訪問控制
*的安全聯鎖功能
預真空鎖以及自動晶圓片上/下載片
選配項:
RF、DC濺射
熱蒸鍍能力
RF或DC偏壓(1000V)
樣品臺可加熱到700°C
膜厚監測儀
基片的RF射頻等離子清洗
應用:
晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆
光學以及ITO涂覆
帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆
帶RF射頻等離子放電的反應濺射