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    NSC-3500(A)全自動磁控濺射系統

    NSC-3500(A)全自動磁控濺射系統:立式自動系統,帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達6“旋轉平臺,支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

    • 產品型號:
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2024-08-12
    • 訪  問  量:1603
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    聯系電話:021-62318025

    產品詳情

    磁控濺射技術

    NSC-3500(A)全自動磁控濺射系統概述:帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達到6"旋轉平臺,支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

    NSC-3500(A)帶有14"立方形不銹鋼腔體,3個2"的磁控管,DC直流和RF射頻電源。 在選配方面,350 l/s渦輪分子泵,額外的磁控管和襯底加熱功能。

    NSC-3500(A)全自動磁控濺射系統產品特點:

    • 不銹鋼腔體

    • 260l/s或350l/s的渦輪分子泵,串接機械泵或干泵

    • 13.56MHz,300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源

    • 晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率

    • 帶觀察視窗的腔門易于上下載片

    • 基于LabView軟件的PC計算機控制

    • 帶密碼保護功能的多級訪問控制

    • *的安全聯鎖功能

    • 預真空鎖以及自動晶圓片上/下載片

    選配項:

    • RF、DC濺射

    • 熱蒸鍍能力

    • RF或DC偏壓(1000V)

    • 樣品臺可加熱到700°C

    • 膜厚監測儀

    • 基片的RF射頻等離子清洗

    應用:

    • 晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆

    • 光學以及ITO涂覆

    • 帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆

    • 帶RF射頻等離子放電的反應濺射

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