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    • NRE-4000(M)反應離子刻蝕:獨立式RIE系統,淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品,不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2“的視窗,另一個空置用于診斷.該系統可以支持Z大到12”的晶圓片。腔體為超凈設計,并且根據配套的真空泵可以達到10-6 Torr 或更小的極限真空。該系統系統可以在20mTorr到8Torr之間的真空
    • RIE刻蝕機:獨立式RIE系統,淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品,不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2“的視窗,另一個空置用于診斷.該系統可以支持Z大到12”的晶圓片。腔體為超凈設計,并且根據配套的真空泵可以達到10-6 Torr 或更小的極限真空。該系統系統可以在20mTorr到8Torr之間的真空
    • NRE-3000 反應離子刻蝕機:PC控制的RIE反應離子刻蝕系統,淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品,不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2“的視窗,另一個空置用于診斷.該系統可以支持Z大到12“的晶圓片。腔體為超凈設計,真空泵可以達到10-6 Torr 或更小的極限真空??梢栽?0mTorr到8Torr之間的真空下工作。
    • NRE-3500(A)全自動反應離子刻蝕機:自動上下栽片,PC控制的RIE反應離子刻蝕系統,淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品,不銹鋼柜,13“頂蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.2“觀察.該系統可以支持Z大到12“的晶圓片。腔體為超凈設計,真空泵可以達到10-6 Torr 或更小的極限真空??梢栽?0mTorr到8Torr之間的真空下工作。
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